迅達真空設備：磁控濺射 +蒸發鍍膜設備是一種多功能、高效的鍍膜設備。設備可根據用戶要求配置 主要用于在塑料、陶瓷、金屬等材質部門鍍制金屬膜、仿金膜等，更換不同的靶材，可得到不同的膜系，如超硬、耐磨、防腐的合金磨等。
結構特點

1 、同時配備先進的圓柱磁控濺射裝置和高效的電阻加熱蒸發裝置，將磁控濺射技術和加熱蒸發技術的有效結合，使設備的適用范圍更廣，可得到多種不同性能的膜層；

2 、獨特的雙門（室）結構，使工件及鍍料的裝卸與鍍膜可同時進行，大大提高工作效率。
蒸發 /磁控鍍膜設備主要技術參數：